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溅射设备招标采购
溅射设备
的相关信息
宜宾市智能钙钛矿叠层光伏创新中心设备采购标段二公开招选公告
形式为自行招选。
二、项目基本情况
（一）招选项目名称：宜宾市智能钙钛矿叠层光伏创新中心设备采购标段二
（二）项目地址：宜宾市高新区
（三）项目概况：本次拟采购涂布三件套设备、磁控溅射设备、丝网印刷整线设备、IV特性曲线测试设备、半自动层压机、原子层沉积设备。
（四）供货期限：自合同签订之日起90日历天内完成供货（定制化设备可延长至180天）。
（五）采购工作内容：
采购公告
四川宜宾
溅射设备
2026-07-30
上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目中标结果公告(1)
【中国国际招标网】
项目名称：上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目
招标项目编号：4197-2140SHJT0001/416
招标范围：铝铜金属溅射设备
招标机构：中电商务（北京）有限公司
招标人：上海积塔半导体有限公司
开标时间：2026-07-21 10：00
公示时间：2026-07-22 15：46 - 2026-07-27 23：59
中标
采购结果
上海浦东新
溅射设备
2026-07-28
贵研生物材料（上海）有限公司磁控溅射设备招标公告
至2025年的财务报表，若成立不足三年的提供自成立之日起至2025年财务报表，若成立不足一年的提供财务状况良好承诺书。
3.4业绩要求：供应商自2023年1月1日至今承担过1项磁控溅射设备供货的供货业绩。（注：合同协议书及发票（与合同相对应的一张增值税发票即可），否则不予认可，提供复印件）。
3.5信誉要求：在“信用中国”网站（www.creditchina.gov
采购公告
上海松江
溅射设备
2026-07-27
循环水冷与电气系统 招标公告
助设备（包括但不限于各种必需的水、电、气设备），安装与调试所需的全部工具、零配件、耗材等。
5.3验收标准包括但不限于：确保循环水冷与电气系统安装验收后能满足其服务的卷绕式真空磁控溅射设备的连续24小时稳定运行。
（二）服务要求
1.售后服务要求：整机（包括所有部件）质保不少于3年，12小时响应、48小时内上门维修、提供终身维护。
2.提供现场免费安装、调试，进行操
采购公告
江苏苏州
溅射设备
2026-07-24
2026年8月采购意向项目-2
进行照射，形成精细图形，其显
微成像部分主要用于观察和记录材料
的微观结构，获取表面微观结构形貌
信息。
290
2026-
08
2
高 真 空 磁
控溅射
拟采购一台高真空磁控溅射设备，该
设备具备高真空洁净环境、全参数精
准可控、低损伤沉积、大面积均匀成
膜四大核心功能，可全面满足大面积
样品、器件阵列与规模化研究需求。
240
2026-
08
本次公开的采
采购意向
溅射设备
2026-07-23
[宣城市] 5项专利权（对应50%权益份额）及1套异质结磁控溅射设备转让公告
的概况 存放地 安徽省宣城经济技术开发区宣酒大道66号双创中心A座6-7层、宣城宇航智能制造产业园。
标的状况 1、本次拟转让标的为五项专利权（对应50%权益份额）及一套异质结磁控溅射设备，专利权名称、权利类型、权利状态、专利号等信息如下：
序号 专利权名称 权利类型 法律状态 专利号 申请日期
1 一种用于磁控溅射工艺腔隔板的冷却结构 实用新型 授权下证 ZL 2
其他
安徽宣城
溅射设备
2026-07-22
5项专利权（对应50%权益份额）及1套异质结磁控溅射设备
挂牌披露信息 交易结果信息
采购公告
溅射设备
2026-07-22
上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目
司特色工艺生产线建设项目 - 评标结果公示公告
项目名称：上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目
招标项目编号：4197-2140SHJT0001/416
招标范围：铝铜金属溅射设备
招标机构：中电商务（北京）有限公司
招标人：上海积塔半导体有限公司
开标时间：2026-07-21 10：00
公示开始时间：2026-07-22 15：46
评标公示截止时间：
采购结果
上海浦东新
溅射设备
2026-07-22
5项专利权（对应50%权益份额）及1套异质结磁控溅射设备交易公告
附件：
采购公告
溅射设备
2026-07-22
上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目评标结果公示公告
【中国国际招标网】
项目名称：上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目
招标项目编号：4197-2140SHJT0001/416
招标范围：铝铜金属溅射设备
招标机构：中电商务（北京）有限公司
招标人：上海积塔半导体有限公司
开标时间：2026-07-21 10：00
公示开始时间：2026-07-22 15：46
评标公示截止时间：2026-07-27
采购结果
上海浦东新
溅射设备
2026-07-22
【初始合同】三工艺腔磁控溅射设备合同公示
地址：深圳市南山区桃源街道深圳大学城
供应商（乙方）：中国电子科技集团公司第四十八研究所
地址：湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
六、合同主要信息
主要标的名称：三工艺腔磁控溅射设备
规格型号（或服务要求）：M79200-12/UM
主要标的数量：1
主要标的单价：7300000
合同金额：7300000.00
履约期限、地点等简要信息：2026年04月15日
采购结果
广东深圳
溅射设备
2026-07-21
工业（同皓）铜靶、镍铬靶采购（框架协议）
购（框架协议）
1.2
采购单位：
同⽅股份有限公司
1.3
采购需求单位：
沂南同皓电⼦元件有限公司
1.4
采购项⽬资⾦落实情况：
⽆
1.5
采购项⽬概况：
本次采购真空磁控溅射设备电镀镀层⽤镍铬靶（Ni80Cr20）、铜靶，为公司铜电极⽣产所需的原材料。
1.6
采购⽅式：
谈判采购
1.7
成交供应商数量及份额：
2
家成交供应商，份额分配⽐例为第⼀名80
采购公告
北京海淀
溅射设备
2026-07-21
2026年安徽艾利奥斯真空磁控溅射设备采购项目采购公告
询价： 2026年安徽艾利奥斯真空磁控溅射设备采购项目采购公告 发布时间： 2026-07-20 12：22：19 价格有效期： 不限 询价单编号： 210030338210438 收货地区： 安徽 芜湖 芜湖市镜湖区 采购品名： 2026年安徽奇瑞奥斯真空磁控溅射设备采购项目 采购数量： 1
采购公告
安徽
溅射设备
2026-07-20
辽宁材料实验室高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目竞争性磋商公告
用型”磁控溅射平台，经过一年多以来对于磁控溅射新技术的测试发现现有设备在一些功能上目前无法实现一些实验的要求。为进一步发展材料素化技术、丰富缺陷结构调控手段和能力，亟需采购新型磁控溅射设备，为探索晶界调控（晶界数量、能量、拓扑、分布、成分等）的极限、点缺陷调控等研究提供助力。
该设备属于真空镀膜技术（PVD），在真空室中，通过电场和磁场的共同作用，将氩气电离形成等离
采购公告
辽宁沈阳
溅射设备
2026-07-16
合肥工业大学钙钛矿电池制备系统采购
伏材料具有高效率、低成本和可低温制备等发展潜力，是新一代光伏技术的重要研究方向。该系统主要服务于透明导电电极、氧化物电子传输层、界面缓冲层、阻挡层及薄膜封装层等关键结构的制备。磁控溅射设备可用于ITO、IZO、AZO、金属氧化物及其他透明导电薄膜的沉积；ALD设备可用于SnO？、TiO？、Al？O？、ZnO等高均匀性、高致密性薄膜的低温沉积；配套惰性气体氛围箱体用于
采购意向
安徽合肥
溅射设备
2026-07-14
2026年8月采购意向项目-18
率、低成本和可低温制备
等发展潜力，是新一代光
伏技术的重要研究方向。
该系统主要服务于透明导
电电极、氧化物电子传输
层、界面缓冲层、阻挡层
及薄膜封装层等关键结构
的制备。磁控溅射设备可
用于 ITO、IZO、AZO、金属
氧化物及其他透明导电薄
膜的沉积；ALD 设备可用于
SnO₂ 、 TiO₂ 、 Al O
₂ ₃ 、 ZnO
等高均匀性、高致密性薄
膜的
采购意向
溅射设备
2026-07-14
2026-2028年teer磁控溅射设备采购、维保及备件[成交候选人公示]
2026-2028年teer磁控溅射设备采购、维保及备件[成交候选人公示]
发布时间：2026-07-09
中标候选人公示.pdf
采购结果
溅射设备
2026-07-09
靶材生产线磁控溅射设备安装零星修缮 询价2026070801
正文内容： 【询价公告】 尊敬的供应商：
靶材生产线磁控溅射设备安装，现进行公开询价采购，诚邀广大有合作意向的供应商参加报价，现将相关事宜公告如下：
零星修缮服务结算支付形式：零星修缮服务费用以银行承兑汇票方式支付
一、对报价单位的资格要求
1.首次报价单位要求提供营业执照；
2.关联供应商仅允许一家参与报价，如发现关联供应商同时报价，则所有报价无效，并视同
采购公告
溅射设备
2026-07-08
苏州大学关于循环水冷与电气系统 招标公告
50.00000000 万元，招标人为苏州大学。本项目已具备招标条件，现招标
方式为公开招标。
二、项目概况与招标范围
规模：循环水冷与电气系统
1 套
主要用于保障大型卷绕式磁控溅射设备
的稳定运行，包括水冷系统、配电系统及气动系统各 1 套。。
范围：本招标项目划分为 1 个标段，本次招标为其中的：
循环水冷与电气系统
三、投标人资格要求
循环水冷与电气系统：
采购公告
江苏苏州
溅射设备
2026-07-04
中国十五冶三公司创新研究院高水平研发平台（Ⅰ）项目超导带材镀膜及检测设备集中采购招标公告
设备（离子束辅
助 IBAD 沉积镀膜设备）
详见附件一：离子束辅助沉积设备
（离子束辅助 IBAD 沉积镀膜设备）
技术要求
/
/ 套 1
定制
设备
6
双面镀银设备（Ag 溅射设备） 详见附件一：双面镀银设备（Ag 溅射 /
/ 套 1 定制
设备）技术要求
设备
（1）MOCVD 设备主要用于将稀土、钡、铜的金属有机前驱体气化后，在载
气携带下进入反应腔，
采购公告
湖北黄石
溅射设备
2026-07-03
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