高真空磁控溅射仪-武汉大学采购与招投标管理中心
竞价
发布时间：
2026-03-17
发布于
湖北武汉
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| 项目名称 | 高真空磁控溅射仪 | 项目编号 | BH2*开通会员可解锁* |
| 开始时间 | *开通会员可解锁* 11:33 | 结束时间 | *开通会员可解锁* 11:33 |
| 供应商资格要求 | 参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额（元） | *开通会员可解锁*.00 |
| 采购方式 | 竞价 | ||
采购货物信息列表
| 序号 | 货物（服务）名称 | 数量 | 计量单位 | 预算单价 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 高真空磁控溅射仪 | 1 | 台 | *开通会员可解锁* | ||
| 技术参数 | 1.真空腔室：≥Ф400×H400mm； 2.真空系统：采用分子泵与+高真空阀门，支持真空度显示，真空极限需达10-5Pa级； 3.设备从大气抽至10-3Pa级真空度≤15min； 4. 基片台尺寸：需达Φ150mm，可支持不同规格基片； 7. 基片台支持水冷，支持基片旋转； 8. 溅射系统需配3套及以上的3英寸大小磁控溅射靶，溅射靶角度、高度可以调节以实现溅射控制 9. 支持从上到下溅射，配装挡板，装配直流流脉冲电源与射频电源，支持金属及氧化物镀膜； 10.气路配有3路及其以上质量流量控制器与混气装置； 11.膜厚不均匀性需≤±4%； 12.整体可实现自动控制； 13.配有报警及保护监测系统； | |||||
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