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多层薄膜工艺腔体CMEIAS2025000205-采购需求

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2025-12-11

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申购主题:多层薄膜工艺腔体

报价要求:国产含税

发票类型:增值税专用发票

付款方式:货到验收合格后付款,如有其他付款要求，请在竞价时注明

收货地址:浙江省/宁波市/镇海区/****

送货时间:合同签订后***天内送达

供应商资质:未纳入宁波东方理工大学/宁波市东方理工高等研究院不诚信行为供应商的

安装要求:免费上门安装（含材料费）

预算:******人民币

备注说明:1.需要送货上门，安装调试，不接受快递物流 2.需要全新正品

序号设备名称数量/单位预算单价品牌型号规格参数质保及售后服务附件

1	多层薄膜工艺腔体	1 (None)	滨州导向科学仪器有限公司	MPPJ*、MPPB、DS**	[{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：*不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：2套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；二．磁控溅射半导体腔体1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：1套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；三.热蒸发腔体：1.蒸发工艺腔体1套：材质：不锈钢2.形状：圆柱形直径mm安装观察窗及挡板3.上下安装加热衬底与蒸发源4.极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度6.衬底转速5~转/min连续可调7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。9.加热电源1套蒸发电源1套：.一套配置高温源容量CC.配坩埚四．设备结构：1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用**W直流电源","important":true}]	1.原厂质保1年
2	多层薄膜工艺腔体	1 (None)	苏州市新锐博纳米科技有限公司	XRB-*、XRJ、ZD**	[{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：*不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：2套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；二．磁控溅射半导体腔体1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：1套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；三.热蒸发腔体：1.蒸发工艺腔体1套：材质：不锈钢2.形状：圆柱形直径mm安装观察窗及挡板3.上下安装加热衬底与蒸发源4.极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度6.衬底转速5~转/min连续可调7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。9.加热电源1套蒸发电源1套：.一套配置高温源容量CC.配坩埚四．设备结构：1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用**W直流电源","important":true}]	1.原厂质保1年
3	多层薄膜工艺腔体	1 (None)	丹阳市硕果真空技术有限公司	MPEJ-*、MPEB-、RZ**	[{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：*不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：2套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；二．磁控溅射半导体腔体1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：不锈钢无缝钢管2.安装观察窗及挡板3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。4.形状：圆柱形直径mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度衬底转速5~转/min连续可调6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。8.磁控阴极：1套；靶材直径mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为；磁控阴极采用循环水冷却；溅射用靶材：直径mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；三.热蒸发腔体：1.蒸发工艺腔体1套：材质：不锈钢2.形状：圆柱形直径mm安装观察窗及挡板3.上下安装加热衬底与蒸发源4.极限压强：8*Pa5.加热温度：室温-度6.衬底转速5~转/min连续可调7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。9.加热电源1套蒸发电源1套：.一套配置高温源容量CC.配坩埚四．设备结构：1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用**W直流电源","important":true}]	1.原厂质保1年