序号

性能指标名称

要求参数值

1

适用基材

透明导电玻璃、硅片等基材

2

适用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

涂膜面积

玻璃有效涂膜面积≥380×380mm，硅片需满涂

4

固含量

5-75%

5

适用基材厚度

玻璃：1.1~3.5mm

硅片：0.1~0.3mm

6

涂布厚度

0.1-10μm（干膜）

7

涂布速度

0-100mm/s，速度可调，速度精度0.1mm/s

8

涂布方式

狭缝涂布

9

薄膜均匀性

片内薄膜不均度≤5%（采用9点测试法，以上、下、左、右、中心9点为测量基准，计算方式为Ui=(Umax-Umin)/(Umax+Umin)，U为膜厚），片间薄膜不均匀度≤3%（计算方式为Ui=(Uavgmax-Uavgmin)/(Uavgmax+Uavgmin)，U为膜厚），玻璃背面无污染。（设备连续工作10个工作日均满足）

10

适用溶剂体系

水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料

11

设备配备双龙门

每套龙门各配一套模头、一套供液系统

12

涂硅片

设备可通过更换“吸附平台、模头”等组件的方式，切换为涂覆硅片的设备。所需的吸附平台及模头由厂家配齐

13

硅片取放

设备配备顶升装置，便于取放硅片

14

预涂功能

设备配备预涂区域或预涂辊

15

平移系统

保证龙门或吸附平台的平稳移动，调平后刀头与平台的相对平行度＜20μm

16

涂布模头

采用流体仿真设计涂布模头，刀头直线度（R）≤3μm，粗糙度Ra≤0.025；唇口直线度（R）≤3μm，提供第三方专业检测报告

17

模头数量配置

涂玻璃模头配备2个，涂硅片模头配备1个

18

涂布模头材质

不锈钢合金，具有良好的耐腐蚀性能，可拆卸清洗，防形变

19

模头升降

模头升降采用高精度伺服电机方式驱动；可自动调整唇口与被涂基材的间隙。涂膜高度依基板厚度自动调节，可手动设置补偿功能。左右两侧可自动调平（调节模头唇口与被涂基板的平行度），自动调平后，狭缝模头水平校准误差精度≤±2μm

20

垫片厚度

0.05/0.08/0.1mm

21

功能模块

涂布模头具有防撞、快速充液和排泡功能（快速充液和排泡功能满足对供液泵、模头及管路进行充液和排泡。从空模头、空浆料罐状态到可进行涂膜状态之间间隔不得超过10min）

22

基台及材质

整机携有大理石承重减震基底平台

23

基材测距

每次涂膜前，可自动检测当前基板高度（厚度），同一片基板高度（厚度）检测误差≤3μm

24

注液泵

注液泵应能保证浆料挤出均匀连续，确保涂膜一致性，其速度精度优于0.1μl/s；供液速度在1-500μl/s，速度可调；具备自动补液、补液后自动泄压及回吸功能

25

自动清洗模块

设备具备自动清洗模头功能，自动清洗后，必须保证无药液残留，管路及型腔内部无明显液体凝聚现象；设置模头清洗区域，配备压刀槽和排液槽，配合上述自动清洗功能和快速充液、排泡功能

26

吸附平台

表面平整度≤±5μm，平台集成真空吸附系统，大小可调

27

储液罐及管路

需采用耐腐蚀材料，液体管路需使用半透明材质

28

质量保证

涂布过程中，需要通过程序实时控制注液情况，以确保在涂布前端及涂布结束后，不能出现涂布头滴液情况

29

防尘和尾废

设备配备防尘罩及FFU过滤系统，内部洁净度保证在千级；配备三色灯及挥发溶剂排风口；机台具有防液体泼洒特性，避免浆料侵入设备内部，损坏内部关键元器件

30

模头拆装平台

需设计模头拆装平台，调平后的平台平整度≤10μm。此外，需要配备专用刀头分解和内部清洗工装及工具，确定清洗频次及方法

31

控制方式

高清触摸屏控制，带有配方存储功能，可保存20组以上成熟的工艺参数；可设置各系统功能的启停、运动轴参数；操作方便简单

序号

性能指标名称

要求参数值

1

适用基材

透明导电玻璃、硅片等基材

2

适用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

抽气速率

大气压至10pa：t≤10s，抽真空速度可调；最低可抽至0.8pa

4

破真空

破真空时间需控制在3-10s

5

破真空使用气体

氮气或者压缩空气

6

真空泵

进口或同等级国产一流品牌干泵，真空泵开启可在控制台操作

7

水冷机

设备自带用于给真空泵冷却的水冷机

8

真空计

双真空计或双量程真空计，用以检测大气压至低压，并在低压区域的量程保证一定精度

9

抽气方式

上抽式设计，需配备匀流板，减弱膜面气流扰动

10

控制方式

高清触摸屏控制（或显示器+键盘+鼠标）；可设置VCD的快慢抽时间、保压时间等参数；工艺参数可分别编号存储和导出，具备工艺历史记录查看功能

11

安全装置

防止过高真空造成设备损坏，设有自动压力调节与安全阀功能

12

功能配置

配有防倒吸，废气收集或过滤系统、破空过滤系统、压力侦测系统；需额外预留一个真空泵接口

序号

性能指标名称

要求参数值

1

适用基材

透明导电玻璃、硅片等基材

2

适用基材尺寸

≥400mm×400mm，可向下兼容

3

加热温度范围

室温~250℃

4

加热器件

设定3个基材工艺腔体，腔体温度独立控制，腔体单独进料与出料，每个腔体上下两个加热器

5

升温速率

升温速率可调，≥25℃/min

6

温度精度

±1℃

7

温度均匀性

±3℃（采用9点测试法，将9个热电偶贴在基材上，以上、下、左、右、中心9点为测量基准，进行温度均匀性测试）

8

尾气

工艺过程中能有效均匀排出挥发的有机废气，排气速率可调

9

保护气体

设备可接入氮气保护气体，配有预热腔，确保保护气体充分预热

10

随机工具

附带取放料工具，避免烫伤

序号

性能指标名称

技术要求

备注

1.1

真空镀膜室

1.1.1

材料及结构

真空室采用304不锈钢，腔体内壁电解抛光处理，减少表⾯放⽓；须保留前后门，便于对腔体内部进行维护

1.1.2

观察窗

由保护玻璃、硬质玻璃组合而成，需符合X射线防护国家标准

1.1.3

腔体漏率

漏率优于5.0×10-10Pa.m3/S，保压12小时后，压强≤5Pa。

1.2

蒸镀真空系统

1.2.1

极限真空度

系统洁净、空置时优于5×10-5pa

1.2.2

分子泵

抽气速率不小于3000L/s

1.2.3

机械泵

抽气速率不小于25m3/h

1.2.4

真空测量时间

大气环境万级洁净间氛围下从常压抽至≤5×10-4pa时间≤30min；

1.2.4

极限真空测量

测量范围从1×105Pa到5.0×10-5Pa

1.2.4

真空密封

采用金属密封和氟橡胶圈密封

1.3

蒸发室基片装置

1.3.1

基片材料

导电玻璃

1.3.2

样品尺寸

400mm×400mm的样品且可向下兼容更多尺寸

1.3.3

基片托盘

通过电机旋转0~30rpm可调

1.4

蒸发源和蒸发电源

1.4.1

蒸发源

配备2组金属蒸发源和4组有机蒸发源，可兼容蒸镀金属、有机及无机材料；源与源之间均配有防止交叉污染的防污板

1.4.2

金属蒸发电源

配备可编程的直流稳压金属蒸发电源1套，金属蒸发电源功率≥1.5KW及以上，最高升温温度可达1500℃，且通过电流控制方式，精确到0.1A，并实现蒸镀速率0.01Å/s的精度显示，可进行电流、电压模式的任意切换和具有水冷控制

1.4.3

有机蒸发电源

配备有机蒸发电源1套；可通过电流或PID智能温控方式进行控制（采用电流控制方式时需精确到0.1A，并实现蒸镀速率0.01Å/s的精度显示，可进行电流、电压模式的任意切换和具有水冷控制；采用PID智能温控方式时控温精度±1℃）；

1.4.4

控制系统

采用PLC+PC控制方式

1.4.5

安全保护措施

缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护。对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护。

1.5

膜厚监测系统

1.5.1

膜厚仪

不少于1组膜厚仪，不少于2套膜厚检测探头

1.5.2

蒸发速率测量精度

0.1~0.5A/s(≤±10%)，0.6~10.0A/s(≤±5%)

1.5.3

膜厚仪测量精度

膜厚仪测量精度优于±0.01Å/s，若镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜且挡板关闭

1.5.4

温度控制精度

±1℃（RT~700℃）

1.5.5

厚度测量精度

优于±1Å；具备与电源联锁功能

1.5.6

片内膜厚不均匀性

≤5.0%（样品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范围内的薄膜材料：包括但不限于金、银、铜、铝、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招标方指定材料进行验证），测试方法：薄膜有效区范围内3×3排列9点测量：不均匀性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%

1.5.7

片间膜厚不均匀性

≤5.0%（样品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范围内的薄膜材料：包括但不限于金、银、铜、铝、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招标方指定材料进行验证），测试方法：薄膜有效区范围内3×3排列9点测量：不均匀性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%。

1.6

自动镀膜系统

开启后根据用户设置的升降温和蒸发速率参数，自动升温加热蒸发材料，按照制定速率蒸镀，到达设定厚度后自动关闭挡板，并降温

1.7

水冷系统

1.7.1

冷水机

控温范围：5℃~30℃

1.8

工艺支持

投标人提供C60和BCP作为钙钛矿器件电子传输层的蒸镀工艺，保证招标方在其他薄膜层制备条件不变时采用该工艺制备电子传输层的钙钛矿太阳能电池性能不低于招标方使用旋涂法制备PCBM和BCP作为电子传输层的性能。