磁控溅射镀膜设备结果公告
中标/成交
发布时间：
2025-10-16
发布于
山西太原
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中标信息
| 成交供应商： | 苏州光拓科技有限公司 |
| 选择理由： | 总价最低，推荐成交 |
| 质疑投诉说明： | 如有质疑，请在三个工作日内将质疑说明文件（纸质）递交至招标与采购中心，逾期不予受理。 |
| 项目名称 | 磁控溅射镀膜设备 | 项目编号 | TYLGJJCG2025-0152 |
| 项目编号 | TYLGJJCG2025-0152 | ||
| 公告发布日期 | 2025/10/13 09:54 | 报价截止时间 | 2025/10/16 09:54 |
| 报价截止时间 | 2025/10/16 09:54 | ||
| 采购单位 | 太原理工大学 | 付款条款 | 签订合同后，供应商在合同约定交货时间内将货物送到采购人指定地点，并完成安装、调试，经采购人技术验收合格，采购人在收到供应商开具的增值税发票后30日内向供应商支付合同金额100%，否则，按合同约定扣除相应违约金后，支付剩余合同金额。 |
| 付款条款 | 签订合同后，供应商在合同约定交货时间内将货物送到采购人指定地点，并完成安装、调试，经采购人技术验收合格，采购人在收到供应商开具的增值税发票后30日内向供应商支付合同金额100%，否则，按合同约定扣除相应违约金后，支付剩余合同金额。 | ||
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 | ||
| 是否本地化服务 | 否 | 是否需要踏勘 | 否 |
| 是否需要踏勘 | 否 | ||
| 踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||
| 踏勘联系电话 | |||
| 踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||
| 踏勘联系时间 | |||
| 采购预算 | ￥195,000.00 | 成交金额 | ￥190,000.00 |
| 成交金额 | ￥190,000.00 | ||
| 送货/施工/服务期限 | 合同生效之日起30日内 | ||
| 送货/施工/服务地址 | 太原理工大学明向校区物理与光电工程学院405室 | ||
采购清单
1
| 采购内容 | 是否进口 | 计量单位 | 采购数量 | 售后服务 | 分项报价 | |
| 磁控溅射镀膜设备 | 否 | 台 | 1 | 1)所供货物自技术验收合格之日起，享受2年免费配套服务； 2) 免费配套服务期内，设备出现非人为因素操作不当产生的问题，由生产厂商免费维护、免费维修、免费更换; 3)免费配套服务期内，在接到用户要求进行技术支持的正式通知（含电话或邮件通知）后，生产厂商技术人员于48小时内，赶到技术服务现场；此外，对使用设备人员进行免费培训。 | ￥190,000.00 | |
| 品牌及型号 | 苏州光拓（GT400A-Y1） 苏州威格（LGPVD400-1） | |||||
| 技术参数要求 | 1.底盘结构采用型材搭建或焊接式框架，外观要求氧化处理或喷漆，防止生锈； 2.底部带有轮子，可推动，并带有可调节高度的支脚。 3.带有机械旋转手臂，有多角度调节操作界面。 4.电气控制集成到底盘上，与真空腔体一体式。 5.基片架结构上基片盘可以容纳4片19.1mm*19.1mm小基片，并可在线切换两次掩膜板，下基片盘采用嵌入式结构，可搭载1片6英寸基片。 6.基片可上下升降，行程50mm，电机驱动实现连续旋转，最大转速可达30转/分钟，通过磁流体与基片托盘连接。 7.配有二个挡板，气缸驱动，二个挡板组合使用，可遮挡4片19.1mm*19.1mm与1片6英寸基片。 8.强磁靶1个，3英寸，带靶挡板，靶角度可调节，可溅射金属及金属氧化物以及其它材料。 9.靶通水冷，保护磁铁在高温溅射过程中消磁，工作压强(溅射)：0.1～10 Pa，溅射不均匀性≤±5％。 10.配备3路MFC控制器，氩气、氧气、氮气，流量上限分别为100sccm, 10sccm, 100sccm。 11.1台射频电源，功率不小于300W，13.56 MHz. 12.采用工控机控制模式，相关的操作均在工控机界面完成。 13.控制软件的真空系统分为自动和手动模式，可以随时切换。 14.带有一键自动溅射功能。 15真空室由不锈钢制成，内部尺寸约为400mm*400mm*450mm，装有基础结构和挡板的固定装置，以及靶、真空泵、样品盘等装置。 16.真空腔体配备两个可以完全打开的门，前门为移门，通过与直线导轨，滑块等装置连接，可使前门左右开启与关闭，后期也可以连接手套箱，在手套箱内部操作前门开关，确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中；后门旋转门，通过旋转轴实现后门的开关，开启后腔体内部完全暴露在空气中，主要的目的为维护检修，并配两个长方形观察窗，配合腔体外部照明灯，方便观察腔体内部状况。腔体极限真空优于5*10^-5pa，从常压到5*10^-4pa不超过15min（充氮气保护），保压12小时，压强小于10Pa。 17.带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，打开腔室,进行样品及靶材的更换。 18.腔体内表面预留安装金属防污挡板接口，后期可安装金属防污挡板。 19.前级泵的抽速不低于24m3/h。 20.主泵采用抽速≥700l/s的分子泵。 21主泵和腔室之间安装有气动插板阀，通径≥160mm。 22.自动抽气控制，带安全互锁功能。 23.真空室配真空计，测量范围为大气至10^-5pa。 | |||||
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