高真空蒸发镀膜系统、磁控溅射镀膜系统 和 热型原子层沉积系统（JLU-KC25056）采购公告
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发布时间：
2025-08-25
发布于
吉林长春
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高真空蒸发镀膜系统、磁控溅射镀膜系统 和 热型原子层沉积系统（JLU-KC25056）采购公告
发布时间：*开通会员可解锁* 06:41:22阅读量：2 次
| 项目名称 | 高真空蒸发镀膜系统、磁控溅射镀膜系统 和 热型原子层沉积系统 | 项目编号 | JLU-KC25056 |
|---|---|---|---|
| 公示开始日期 | *开通会员可解锁* 14:41:22 | 公示截止日期 | *开通会员可解锁* 15:00:00 |
| 采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 国内合同签订后15个日历日内 | |
| 预算 | ￥898,000.00 | ||
| 最高限价 | |||
| 发票要求 | 增值税发票（一般纳税人须开具增值税专用发票） | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
||
| 收货地址 | 吉林大学 | ||
采购清单 1
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 普迪真空 | ||
|---|---|---|---|
| 规格型号 | PD-400C | ||
| 技术参数 | （A） 磁控溅射镀膜系统主要配置包括：真空室、真空系统、气体控制、溅射靶枪、溅射电源、加热工件台、控制系统组成。1. 真空室1.1采用304 不锈钢真空室，尺寸约为 400mm（宽）× 400mm（深）× 380mm（高），内部抛光；1.2真空室前开门，门上带有一个 100mm 观察窗，观察窗带挡板，防辐射；1.3底部 3 个法兰，用于安装靶枪及挡板转轴；2. 真空系统2.1采用“分子泵+机械泵”真空系统；气动阀门；分子泵抽速：1300L/S，机械泵抽速：9L/S；2.2真空阀门：型号：DN40mm 挡板阀 2 套；气动主阀 DN200 1 套；可调限流阀 1套；2.3真空测量：2低1高数显复合真空计一套，含真空规管；3.气体控制3.1 3 路进气，流量计最大流量分别为 200/100/20sccm；4.溅射靶枪4.1 3个3英寸圆形靶枪，杆状安装，共焦向上溅射；4.2 靶枪和工件距离 60-120mm 电动可调节；4.3 每个靶枪带一个独立的电控气动挡板；5.溅射电源5.1直流电源500W*1台，射频电源600W*2台；6.加热工件台6.1直径 6 英寸工件台；6.2转速 0-30RPM 可调节；6.3可放 100*100mm 样品；6.4样品台加热温度 500℃；导电温控仪控温；6.5配备气动样品台挡板。7.控制系统7.1西门子 PLC+触摸屏手自动控制系统；7.2控制内容：机械泵，分子泵，气动、电磁阀门、流量计等等；自动抽真空，自动镀膜（选配）、自动停泵等等；7.3完整的互锁保护（硬件、软件互锁），在手动和自动模式下，设备处于完整互锁保护下。 | ||
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; | ||
采购清单 2
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 高真空蒸发镀膜系统 | 1 | 套 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 普迪真空 | ||
|---|---|---|---|
| 规格型号 | PD-400S | ||
| 技术参数 | （A） 高真空蒸发镀膜系统主要配置包括：高真空蒸发镀膜系统PD-400S1. 腔体结构：不锈钢腔室，方箱腔体，前后开门，可对接手套箱；2. 真空系统：进口分子泵+直联旋片泵准无油真空系统；3. 极限真空：优于5.0×10-5Pa，真空漏率≤10-8Pa.l/s；4. 基片台尺寸：不变小于150mm*150mm；5. 抽气时间：真空室从大气到抽到≤5.0×10-4Pa，小于25min（手套箱环境）；6. 6组蒸发源；7. 膜厚检测：进口膜厚仪自动镀膜，膜厚检测精度0.1埃。 | ||
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; | ||
采购清单 3
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 热型原子层沉积系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 普迪真空 | ||
|---|---|---|---|
| 规格型号 | PDALD-T100B | ||
| 技术参数 | （C） 热型原子层沉积系统简规：100*100mm，150℃样品台，2路加热源，1路去离子水前驱体源，预留一路待升级1、100*100mm样品反应腔；2、反应腔上、下独立加热控温，样品温度可加热到150℃，温度控制精度±0.5℃；3、沉积腔室内无死区，沉积薄膜颗粒少，0.5um以上颗粒值增加少于50颗；4、配置2路加热金属前驱体源和1路水前驱体；驱体源配置流量可控的独立载气气路，源和管道前驱体管道可加热到200℃，温度控制精度±0.5℃；Swagelok 快速ALD阀门，响应时间10ms；5、Inficon薄膜真空计和大气压监测双真空计，实现ALD工艺过程中脉冲压力变化的实时监测；6、真空泵前配置有残余前驱体源处理热阱，加热温度可达600℃，控制精度±0.5℃；7、全自动PLC自动控制软件，触摸屏人机操作界面；带有Recipe菜单，日志与数据记录，CDA欠压报警等异常报警与处理，登录权限管理；8、设备维护简单、方便，一次大保养仅需2小时可完成。 | ||
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; | ||
吉林大学
*开通会员可解锁* 14:41:22
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