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项目名称:深圳市三利谱光电科技股份有限公司改扩建项目
建设单位:深圳市三利谱光电科技股份有限公司
编制单位:广东新泓环境科技有限公司
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建设地点:深圳市光明新区公明办事处楼村社区第二工业区同富一路5号第1-9栋
建设内容:
(1)涂布工艺粘度由3000~5000 mPa·s降至500~800mPa·s;压敏胶年用量调整为552 t/a,新增乙酸乙酯263 t/a,总涂布液年用量为815 t/a;年工作时间延长至330天,24小时运行。
(2)5#车间增加一条涂布中试线、7条AOI线、磨边区与手工检验区。
(3)6#车间增加一条AOI线,新增皮秒激光机、CO2切割机等切割设备,增设画线组及边角料裁切设备。
(4)3#车间增加2条裁切线。
(5)将10#车间内研发样品厂(实验室)搬迁至9#研发实验楼。
(6)废气治理升级:末端碱喷淋塔改为一级除臭复合塔,拆除活性炭吸附箱,新增“二级除臭复合塔+干式过滤器+沸石转轮”。高浓度废气经“旋转RTO+一级除臭复合塔+二级除臭复合塔+干式过滤器+沸石转轮”处理;低浓度废气接入“干式过滤器+沸石转轮”阶段。净化后废气合并通过30米高排气筒(DA001)排放。沸石转轮浓缩脱附废气返回旋转RTO二次处理。
(7)实验室增设一套一级活性炭吸附装置,废气经处理后通过15米高排气筒排放。
除上述改扩建内容外,其他主要生产工艺、生产设备均未产生变化;改扩建前的产品产能分别为:偏光片430万平方米、保护膜10万平方米、太阳膜6万平方米,改扩建后,产品产量均不发生变化。
附件1: 3.1建设项目环境影响报告表(公开稿).pdf 1.2 MB , 下载次数 1
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