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FIB配套低温ALD生长氧化铪设备

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发布时间：

2026-07-06

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FIB配套低温ALD生长氧化铪设备

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截止时间：*开通会员可解锁* 18:00:00

基本信息：

申购主题：FIB配套低温ALD生长氧化铪设备

送货时间：合同签订后30天内送达(具体以合同约定为准)

报价要求：

安装要求：免费上门安装（含材料费）

付款方式：货到验收合格后付款(具体以实际沟通为准)

收货地址：上海市浦****

备注说明：

采购明细

序号	采购内容	数量/单位	预算单价	品牌	型号	规格参数	质保及售后服务	附件
1	FIB配套低温ALD生长氧化铪设备	1.0		北京三和联科技	NCALD200S	[{"key":"1","value":"1.样品载台尺寸：≥200mm x 200mm；2.反应温度40℃~150℃，控制精度±1℃；3.包含至少两路标准金属MO前驱体源和一路常温直通源，配置高温快速ALD阀（响应时间＜15ms）、手动阀；4.预留1个臭氧接口，1路金属MO源接口；5.含至少两路载气系统，原装进口流量计控制，所有前驱体源管路采用管路+VCR密封，并具有在线清洗功能；6.配备高性能真空系统，整机极限真空＜5E-2Torr，真空漏率＜5E-7Pa·L/S；7.配置高性能干泵，抽速≥50m3/h；8.真空计前设有保护真空计的高效过滤网以及气动隔膜阀； 9.专为低温工艺优化设计的主机；10.具有可调节的温度、流量、脉冲时间等参数；11.使用氧化铪前驱体，沉积氧化铪50cycle，膜厚不均匀性±3%内，并支持25~40℃生长氧化铪的工艺调试；12.包含至少150氧化铪；13.包含至少两年质保，包括人员服务和配件损坏和工艺调试服务。","important":true}]	按行业标准提供服务
2	FIB配套低温ALD生长氧化铪设备	1.0		浙江科民电子	TALD-230L	[{"key":"1","value":"1.样品载台尺寸：≥200mm x 200mm；2.反应温度40℃~150℃，控制精度±1℃；3.包含至少两路标准金属MO前驱体源和一路常温直通源，配置高温快速ALD阀（响应时间＜15ms）、手动阀；4.预留1个臭氧接口，1路金属MO源接口；5.含至少两路载气系统，原装进口流量计控制，所有前驱体源管路采用管路+VCR密封，并具有在线清洗功能；6.配备高性能真空系统，整机极限真空＜5E-2Torr，真空漏率＜5E-7Pa·L/S；7.配置高性能干泵，抽速≥50m3/h；8.真空计前设有保护真空计的高效过滤网以及气动隔膜阀； 9.专为低温工艺优化设计的主机；10.具有可调节的温度、流量、脉冲时间等参数；11.使用氧化铪前驱体，沉积氧化铪50cycle，膜厚不均匀性±3%内，并支持25~40℃生长氧化铪的工艺调试；12.包含至少150氧化铪；13.包含至少两年质保，包括人员服务和配件损坏和工艺调试服务。","important":true}]	按行业标准提供服务
3	FIB配套低温ALD生长氧化铪设备	1.0		苏州美图半导体	9200SLALD	[{"key":"1","value":"1.样品载台尺寸：≥200mm x 200mm；2.反应温度40℃~150℃，控制精度±1℃；3.包含至少两路标准金属MO前驱体源和一路常温直通源，配置高温快速ALD阀（响应时间＜15ms）、手动阀；4.预留1个臭氧接口，1路金属MO源接口；5.含至少两路载气系统，原装进口流量计控制，所有前驱体源管路采用管路+VCR密封，并具有在线清洗功能；6.配备高性能真空系统，整机极限真空＜5E-2Torr，真空漏率＜5E-7Pa·L/S；7.配置高性能干泵，抽速≥50m3/h；8.真空计前设有保护真空计的高效过滤网以及气动隔膜阀； 9.专为低温工艺优化设计的主机；10.具有可调节的温度、流量、脉冲时间等参数；11.使用氧化铪前驱体，沉积氧化铪50cycle，膜厚不均匀性±3%内，并支持25~40℃生长氧化铪的工艺调试；12.包含至少150氧化铪；13.包含至少两年质保，包括人员服务和配件损坏和工艺调试服务。","important":true}]	按行业标准提供服务