标的名称：紫外电子束蒸发镀膜机

标的数量：1

主要功能或目标：设备专为从深紫外（DUV，低至193nm）到红外（IR） 的全波段光学薄膜镀制而设计。通过特殊配置（如优化的光学监控路径），可实现对200nm-380nm深紫外波段镀膜过程的直接监控，通过其标志性的APS等离子体源提供离子辅助沉积，可以显著提升膜层的致密度、附着力和稳定性。为团队紫外镀膜方向提供重要设备支撑。

需满足的要求：配备6kW和10kW双电子枪，适配不同熔点材料。APSpro等离子体源支持离子辅助沉积。OMS 5100（360-1750nm）与晶振监控，深紫外可扩至200-380nm。高性能泵组配合冷阱，实现快速循环。陶瓷加热器最高300℃恒温烘烤。可实现193nm双面透＞98%、225-300nm透＞99.3%、225-400nm反射＞99%。