往复立式双靶位磁控溅射镀膜设备
发布时间：
2025-09-30
发布于
辽宁沈阳
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后查看完整商机。全国免费咨询热线:400-888-7022| 往复立式双靶位磁控溅射镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学院金属研究所2025年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学院金属研究所 |
| 采购项目名称： | 往复立式双靶位磁控溅射镀膜设备 |
| 预算金额： | 92.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02050910金属表面处理设备 |
| 采购需求概况 ： | 用于大尺寸、高强度碳纳米管光学复合薄膜的制备研究。 |
| 预计采购时间： | 2025-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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