1.1700℃高温炉，数量4台，原厂质保1年，货期1个月内。 主要目标：为高熔点材料的研究提供超高温热环境，解决普通高温炉无法满足的材料烧结、晶相合成与高温稳定性处理需求，通过极端高温实现高熔点材料的致密化、纯相形成及耐高温性能调控。 2.1200℃高温炉，数量2台，原厂质保1年，货期1个月内。 主要目标：为微波材料、薄膜材料及半导体的研究提供稳定可控的中高温热环境，其温度范围（通常室温至 1200℃）覆盖了多数无机非金属材料（如陶瓷、微波介质）的关键工艺温度，既能满足基础烧结需求，又避免了超高温（如1500℃以上）导致的材料过烧、晶粒异常长大等问题,低於1200oC會相當準確相較於1700℃高温炉。 3.半导体薄膜溅镀机，数量1套，原厂质保3年，货期3个月内。 主要目标：高精度薄膜制备、广材料兼容性、功能性调控能力，且直接对接研究的 “深度需求” 与 “产业转化逻辑”。能解决其他薄膜制备技术（如蒸发、溶胶 - 凝胶、化学气相沉积（CVD）等）无法满足的核心技术需求。 4.微波材料及器件分仪析，数量1台，原厂质保3年，货期3个月内。 主要目标：“在高频频段实现对电磁波的精准控制”，而这一过程中：材料的本征参数（ε、μ、tanδ）需分析仪“看见”；器件的高频性能（增益、带宽、噪声）需分析仪 “量化”；设计的缺陷与寄生问题需分析仪 “定位”；系统的兼容性与可靠性需分析仪 “验证”。 5.半导体组件参数量测系统，数量1套，原厂质保3年，货期4个月内。 主要目标：用来表征电阻、二极管、晶体管、忆阻器和电容器的参数特性，比如电流-电压(IV)测量和电容-电压(CV)测量，且需要具备超快速脉冲测量。 6.卧式球磨机，数量1台，原厂质保1年，货期1个月内。 主要目标：通过研磨介质（如玛瑙球、氧化铝球）的高速旋转与撞击，实现物料的破碎、混合与细化，是后续材料合成、成型与性能测试。 7.干燥箱，数量1台。原厂质保1年，货期1个月内。 主要目标：为材料的研究提供精准、稳定且可控的温度环境，以保障材料制备、性能测试及可靠性验证等环节的准确性与重复性。 8.应用于第六代通信及低轨道卫星通信的67GHz矢量网络分析仪，数量1台，原厂质保3年，货期3个月内。 主要目标：通过高频段覆盖、矢量测量精度、多