A02100301显微镜

微束定点精修系统，1台 功能：定点制备无非晶层、无镓离子注入的透射电镜样品 （1） 配备二次电子探头，可实现加工的同时进行高分辨观察，具备纳米级分辨率。 （2） 采用低能氩离子，加工离子能量范围：50eV ~ 2keV，离子束束斑尺寸：≤1μm。 （3） 样品台倾转角度：-10度 ~ +30度，连续可调。 （4） 配备液氮冷台，温度控制范围大于-170℃~室温连续可调。 （5） 系统基本真空：≤3.3x10-6 Tor。配备Load lock快速换样仓。 （6） 采用可编程软件控制，实时显示制样状态。 氩离子抛光仪，1台 功能：同时具备横截面切割和平面大面积抛光功能，满足复合材料以及半导体、不导电样品各类制样需求； （1） 离子源类型：配置两束离子源，两束离子源均可独立调节且具有无永磁体、无耗材设计；离子枪能量：100eV ~ 8 keV，束流密度：≥10 mA/cm2。 （2） 样品台抛光角度：不小于±10°。 （3） 温度控制范围：-100℃ ~ 室温连续可调。一次加注液氮持续制冷时间：≥18小时。 （4） 系统基本真空：≤1×10？？ mbar。 （5） 触控界面：≥10英寸触屏，配方编程。 （6） 数据记录：黑匣子事件日志，故障诊断精准定位。 （7） 气体系统：99.999%氩气，电子压力监测。 离子减薄仪，1台 功能：带冷台的离子减薄仪，既可以快速制备透射电镜样品，又可以在0.1kev下精修样品薄区的非晶层，用于陶瓷、半导体、以及多层膜截面等材料透射试样的制备。 （1） 离子源类型：离子源双束聚焦，扇面区域的角度分布10-90度可调，具有无永磁体、无耗材设计。能量范围：100eV ~ 8 keV，离子枪调节范围：不小于-10° ~ +10°。 （2） 温度范围：-100℃ ~ 室温连续可调，一次加注液氮持续制冷时间≥8小时。 （3） 系统基本真空：≤5x10-6Tor，配备预换样室，换样时间≤1min。 （4）控制界面：≥10英寸触屏，支持配方编程控制。 （5）数据记录：黑匣子事件日志，故障诊断精准定位。 （6）气体系统：99.999%氩气，电子压力监测。