A02330300电子工业生产设备

超高真空多靶材磁控溅射系统1套，概括要求如下： 1)圆柱体不锈钢超高真空反应腔体 2)3个2英寸超高真空共溅射靶枪接口，配置3个共焦溅射靶枪，向上溅射； 3)真空系统：涡轮分子泵和干泵组合，极限真空可达到5x10-8 Torr 4)样品台可容纳最大4英寸基片，推荐温度范围:室温到 800°C，温控精度±1℃，配备马达，实现 360 度可调速度的旋转，配合倾斜溅射改善均匀性 5)2个500W直流电源 + 1个300W射频电源 6)3路工艺气体Ar,N2, O2 7)自动压力控制插板阀，采用下游压力控制 8)PLC控制系统 9)薄膜均匀性：≤±2.5% 具体要求详见采购文件。 供货期：签订合同之日起，6个月货到采购人指定地点并安装验收完毕。（包括供货，安装，调试，验收合格所需时间）。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。