A02052402真空应用设备

采购名称：超导腔磁控溅射镀膜系统 实现功能：满足在1.3GHz单cell铜腔以及650MHz单cell铜腔内壁进行镀膜，且保证在腔体束管、iris、赤道等部分，获得具有良好均匀性、致密性、结合力的膜层。 采购数量：本次拟采购设备总数量为1套 指标要求：（待镀工件）加热温度≥250℃，本底真空度1.0×10-5Pa（加热烘烤后），漏率≤5.0×10-9mbar·l/s ，直流电源500w , Hipims电源（峰值功率）1KW、Hipims电源（峰值功率）300KW、偏压电源100V、柱状磁控阴极靶。 质量要求：要求厂家有相关机械加工设备及经验，具备完整的质量管理体系。 服务及安全：质保期1年，发生质量问题时需4h内及时响应，质保期内须满足上门维修或返修条件；质保期外仅收材料及成本费用。产品存储须保持洁净，产品运输保障稳固及安全。 时限：产品交货期限为合同签订后4个月内，如甲方需要可提前分批发货。