A02052402真空应用设备

多元多通道复合离子束沉积设备，数量：1套。该设备用于：‌纳米级功能薄膜的制备‌与‌材料表面高性能改性‌等前沿科研与高端制造领域；主要包括：1）真空室及真空系统为镀膜提供高真空环境 1.1 腔体极限真空度≤5×10-4Pa； 2）离子源系统离子源系统主要实现离子注入工艺 2.1 离子源系统包括独立的离子源、触发电极、高压电极和引出电极等，离子源阴极靶材方便更换，带水冷功能，离子源与真空室通过气动阀或者电磁阀连接，不密封，只隔离 2.2 离子注入过程中通过观察窗可观察到离子源工作状态 2.3 一套离子源分别配套独立的电源系统，电源电压可调（0～15KV） 2.4 离子注入元素包括但不限于：Ag,Au,Pd,Ti,Ni,Cu,Co 2.5 离子注入时零件能承受的温度≤100℃ 3）磁过滤源系统实现高精密涂层的制备 3.1 磁过滤等离子体源系统包括阳极筒、偏转电源、弧电源、磁过滤器、负偏压电源等 3.2 磁过滤等离子体源系统与真空室绝缘，磁过滤等离子体源带水冷功能 3.3 负偏压电源作为离子赋能装置，负偏压可调（0～1000V，精度±1V） 3.4 两套磁过滤离子源系统安装于真空腔体两侧，每侧安装双 90°磁过滤器 3.5 偏转电源提供偏转磁场 3.6 弧电源为阴极触发供电，脉冲线圈电源用于控制弧斑均匀消耗靶材 4）磁控溅射系统进行涂层沉积 4.1 磁控靶位：有效尺寸≥200mm×60mm，水冷，与法兰采用橡胶圈密封 4.2 直流电源最大功率10kW，1台 5）样品架组件主要实现样品装载与运动 5.1 样品架具有自转和公转功能，带有刹车装置，自转速度可控 5.2 真空室加热温度为室温至 400℃可调 5.3 样品可安装在转接工装上，考虑兼容模式 6）系统设置和控制系统 6.1 采用工业级工控机