标的名称:原子层沉积系统 标的数量:1 主要功能或目标:原子层沉积设备支持多种氧化物薄膜典型沉积以及上述材料的纳米叠层、掺杂层和界面调控层。它能广泛应用于柔性电子器件、微纳微机电系统（MEMS）传感器、锂离子电池电极表界面钝化、以及集成电路中高介电常数k介质层的制备，在材料科学与器件等多个交叉学科具有重要价值。 需满足的要求:用于HfO？、ZrO？、HZO等氧化物薄膜、界面层和钝化层沉积。样品尺寸10mm2蓝宝石小片、10mm×10mm或25mm×25mm实验片，6英寸Si/SiO？ 晶圆；厚度1nm–1μm，铁电/高k功能层通常为5–50 nm，界面层和钝化层为1–20nm，绝缘层为数百nm或1μm。沉积速率为？级，膜厚均匀性6 英寸晶圆优于±3%–±5%。基底加热温度室温至400℃，满足氧化物ALD沉积温度窗口。