精密纳米材料沉积设备技术规格表

序号

部件

项目

属性/规格

1

设备整机

基板尺寸

支持200mm×200mm玻璃基板

2

基板厚度

0.4mm-1mm

3

布局方式

长度方向布置

4

操作方式

手动操作

5

高精度纳米沉积系统

基板固定方式

真空吸附

6

载台旋转

≤±10°

7

打印高度

0.5mm-1.5mm

8

运动精度（x/y轴）

≤±5μm

9

打印轴（X轴）运动速度

≤200mm/s

10

落点精度

≤±25um

11

工作负压控制精度

≤0.3kPa

12

沉积模组工位

4+1；4个沉积模组工位，1个转移工位

13

废液槽

具备

14

低频喷射功能

待机时，喷头模组按设定频率进行低频喷射

15

墨滴观测

可测量体积、速度、角度

16

异常喷孔屏蔽功能

异常喷孔可屏蔽

17

上视

确认喷头角度，喷头表面观察

18

下视

定位、纠偏、墨滴观察

19

打印图形

规则点阵打印

20

气氛控制

水氧含量

≤1ppm

21

洁净等级

Class3（ISO标准）

24

温度控制

25±1℃

真空干燥成膜设备

操作方式

手动取放片

基板尺寸

支持200mm×200mm基板

基板厚度

适配0.4mm-1mm厚度玻璃基板

极限真空度

5 Pa

冷凝板

温控范围：1-25℃，控温精度：±1℃

Stage

温控范围：室温-120℃，控温精度：±1℃

基板和冷凝板的距离

2-30 mm±0.15mm

压力控制

系统压力控制范围：1mbar-1000mbar

紫外固化设备

UV固化波长

365nm光源

辐射强度

额定强度≥1000mw/cm²

光照强度

10%-100%可调